電鍍層測(cè)厚儀技術(shù)推薦

鍍鋅層測(cè)厚儀技術(shù)推薦鍍層厚度測(cè)試方法一般有以下幾種方法：

光學(xué)顯微鏡法。適用標(biāo)準(zhǔn)為：GB/T6462-2005

利用金相顯微鏡原理，對(duì)鍍層厚度進(jìn)行放大，以便準(zhǔn)確的觀測(cè)及測(cè)量。該方法需要對(duì)樣品進(jìn)行破壞性分割，對(duì)橫切面進(jìn)行放大測(cè)量。

、X-ray法（X射線法）。適用標(biāo)準(zhǔn)為：GB/T16921-2005

庫侖法，此法一般為仲裁方法。適用標(biāo)準(zhǔn)為：GB/T4955-2005

利用適當(dāng)?shù)碾娊庖宏枠O溶解限定面積的覆蓋層，電解池電壓的急劇變化表明覆蓋層實(shí)質(zhì)上溶解，經(jīng)過所耗的電量計(jì)算出覆蓋層的厚度。因陽極溶解的方法不同，被測(cè)量覆蓋層的厚度所耗的電量也不同。用恒定電流密度溶解時(shí)，可由試驗(yàn)開始到試驗(yàn)終止的時(shí)間計(jì)算；用非恒定電流密度溶解時(shí)，由累積所耗電量計(jì)算，累積所耗電量由電量計(jì)累計(jì)顯示。

而X-ray法（X射線法）鍍鋅層測(cè)厚儀是目前常用的一種無損檢測(cè)方案，該方法的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)為：

X熒光射線（XRF）測(cè)厚儀器特點(diǎn) 

1、鍍層分析快速、無損，對(duì)樣品無需任何處理。一般測(cè)試一個(gè)點(diǎn)只需要數(shù)10秒~3分鐘，分析高。

    X熒光分析儀鍍鋅層測(cè)厚儀是光物理測(cè)量，其對(duì)測(cè)試樣品不會(huì)產(chǎn)生任何的物理、化學(xué)變化，因此，其屬于無損測(cè)量。同時(shí)對(duì)測(cè)試的樣品不需要任何處理，分析速度更加快捷。

2、可測(cè)試超薄鍍層，如：在測(cè)試鍍金產(chǎn)品時(shí)，可測(cè)試0.01米的鍍層厚度，這是其他測(cè)厚設(shè)備無法達(dá)到的。

     X熒光通過射線的方式來檢測(cè)鍍層的厚度，因此，其對(duì)樣品的表面物質(zhì)測(cè)試為靈敏，因此，其非常適合測(cè)試超薄鍍層，也是目前超薄鍍層常用的測(cè)量方法。

3、可測(cè)試多鍍層，分析遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其他測(cè)量方法。

X射線具有一定的穿透能力，因此，在測(cè)試鍍層時(shí)，它可以穿透多層鍍層，通過每層鍍層產(chǎn)生的特征X射線計(jì)算其厚度，并可分析其鍍層的組成。

4、可分析合金鍍層厚度和成分比,這是其他測(cè)厚設(shè)備不能做到的。   

5、對(duì)于樣品可進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測(cè)量，適合分析鍍層的厚度分布情況并可以對(duì)樣品的復(fù)雜面進(jìn)行測(cè)量。

    由于X熒光的無損分析方法，同時(shí)儀器高度的自動(dòng)化控制技術(shù)，保證測(cè)試中可以進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測(cè)量，不但提高測(cè)試效率，同時(shí)可以分析測(cè)試樣的厚度分布情況。

6、對(duì)分析的多鍍層每層之間的材料，要求有明顯的區(qū)別，即，每層樣品元素有明顯的差別。

     由于X熒光是通過特征X射線，對(duì)被測(cè)樣品進(jìn)行厚度分析的，因此每層鍍層的材料應(yīng)有明顯的區(qū)別。

7、不可以測(cè)試超厚樣品，普通金屬鍍層總厚度一般不超過30微米。根據(jù)各種元素的能量不同，測(cè)量范圍都不相同,如：

  原子序25~40，約0.01~30um原子序41~51，約0.02~70um,但是陶瓷上的涂層因?yàn)槊芏认鄬?duì)普通金屬電鍍工藝,密度會(huì)小,所以可以測(cè)試更厚,比如未燒結(jié)的MoMn涂層可以測(cè)試150微米以上.   

8、可以對(duì)極小樣品進(jìn)行測(cè)試，例如：螺絲、電路板焊盤、接插件的插針等?？梢詫射線照射在樣品的光斑調(diào)到很小的地步（可以達(dá)到微米級(jí)，因此，超小樣品的測(cè)試非常容易。

9、鍍鋅層測(cè)厚儀屬于對(duì)比分析儀器，測(cè)試不同的鍍層樣品需要不同的鍍層標(biāo)樣，雖然有FP法的測(cè)試軟件，但在精準(zhǔn)測(cè)試中，一定需要標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行校對(duì)，因此，企業(yè)應(yīng)用中采用標(biāo)樣校對(duì)的方法是常見的。

10、針對(duì)不同的鍍層測(cè)試對(duì)象，可選擇不同結(jié)構(gòu)的X熒光分析儀器。例如：上照射和下照射的設(shè)備；探測(cè)器分為正比計(jì)數(shù)器和半導(dǎo)體探測(cè)器的等，他們都有各自的優(yōu)缺點(diǎn)。

2.

鍍鋅層測(cè)厚儀的特點(diǎn):

3.1 鍍鋅層測(cè)厚儀Think800A是專門針對(duì)鍍層厚度測(cè)量、鍍層元素種類及含量的快速無損分析的需求，特設(shè)計(jì)的一款產(chǎn)品；

3.2 采用上照式結(jié)構(gòu)，以滿足不規(guī)則表面樣品的測(cè)試要求；

3.3 采用美國(guó)型的Si-pin探測(cè)器，高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)；

3.4 采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度，以滿足不同規(guī)格樣品的鍍層測(cè)試。同時(shí)定位激光定位光斑，以確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊；

3.5 高移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn)，重復(fù)定位小于0.005mm；

3.6 內(nèi)置φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器，可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的鍍層測(cè)試；

3.7 多重防輻射泄露設(shè)計(jì)，具有良好的射線屏蔽作用； 

3.8 內(nèi)置高移動(dòng)平臺(tái)，通過測(cè)試軟件可視化操作：鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)；

3.9 采用網(wǎng)口傳輸數(shù)據(jù)，數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定且快。